型号：DZ-450

厂家：中科院沈阳科学仪器股份有限公司

价格：34万

购置时间：2017年11月

1. 仪器使用范围

通过蒸发镀膜设备技术的应用，在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜，大大提高了材料的物理、化学性能。

2. 仪器特点

蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜，其优点：改善美观和材料表面硬度，提高耐候性，减少吸水率，增强材料表面的导电性

3. 仪器技术参数

极限真空度：6 * 10^-5 Pa

从大气抽至5 * 10^-4Pa ≤ 30 min

真空室漏率：漏率为关机12 h ≤ 10 Pa

样品到蒸发源距离范围：250 mm–300 mm

样品可加热控温，温度范围：室温– 300 ℃

电机驱动CF35转速：5 ~ 30转/分

蒸发电源最大输出功率：3 Kw (电压10 V;电流300 A)

分子泵抽速：600 L/S

机械泵及电磁阀抽速：9 L/S

宽量程数显真空计，电阻规：1.0 * 10⁵ Pa – 1.0 * 10^-1 Pa

电离规：1.0 * 10^-1 Pa – 1.0 * 10^-5 Pa